本文標題："形狀類似于掃描電子顯微鏡分析顯微鏡"
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形狀類似于掃描電子顯微鏡分析顯微鏡
特別是隨著高度集成化的進展,對于大型外存儲器也是可能適用的
。出磁泡材料所必備的恃性。僅僅沿一個結(jié)晶軸方向易于磁化時,泡的
尺寸會很小,泡的移動速度可能非常高。最初被開發(fā)的是稱為正鐵氧體
的一系列化合物,爾后是人造石榴子石,有希望滿足所提條件。石榴子
石泡轉(zhuǎn)換所必要的能量只不過為最小型三極管轉(zhuǎn)換能的二百五十分之
一
新型石印術(shù)與超LSI(大規(guī)模集成電路)
小型化與石印術(shù)的最小板有密切關(guān)系,為了實現(xiàn)超LSI,最小板幅要
求在1微米以下。約0.4微米的紫外線照射光致抗蝕劑,由于照射光線的
衍射效應(yīng)大,1微米的板是困難的。代之以電子束,其波長為紫外線的幾
千分之一,故其衍射效應(yīng)可忽略不計,1微米以下的板形成圖案,應(yīng)該認
為是可能的。電子束照射裝置的形狀類似于掃描電子顯微鏡。基木原
理是:在掩蔽膜(超LSI電路原圖)下的光電倍增管發(fā)出的信號,通過控制
電子束掃描在試樣上的斷續(xù)來進行電子束致抗鈉劑與光致抗蝕劑一樣,
涂在半導(dǎo)體基板上使用,曾以各式各樣的聚合物進行試制。負型電子束
致抗蝕劑有
(1)具有環(huán)氧基團的聚合物;
(2)具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的聚合物
(3)含乙烯基、丙烯基的聚合勃,等等。
正型電子束致抗蝕劑有
1)甲基丙烯酸酯系聚合物;
2)烯砜系聚合物,等等。
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