本文標題："熒光(XRF)分析技術涂層的質量檢測儀器"

發布者：yiyi ------ 分類: 行業動態 ------ 人瀏覽過-----時間：2017-10-3 23:29:40

熒光(XRF)分析技術涂層的質量檢測儀器

在工廠，X射線熒光(XRF)分析元素技術已用于準確地控制涂層

的質量，由非實驗室人員進行的XRF測試，就能迅速得到關于涂覆涂

料的量和均一性的信息，有關的分析數據很精確。已證明XRF對測

定紙或膜上硅氧烷涂層的質量，以及在紙中填充的二氧化鈦的質量

和膜上銀的質量很有效。

技術

X射線熒光是快捷的、非破壞性的和比較性的技術，能夠定造

測定很多材料中的元素。XRF類型很多

XRF臺頂式分析儀以低能級的放射性同位表作為輻射源，輻射

源與試樣距離很近。輻射源發出的一次X射線照射到試樣上，產生

二次X射線熒光，二次X射線熒光能夠表征試樣中元素的特定的能量

，這種能量與化學或物理狀態無關-在一充滿氣體的計數器中檢測X

射線，得到一系列的脈沖，其振幅與入射的輻照能量成比例。例如

，從硅元素X射線得到的脈沖數與試樣中硅氧烷涂層的質量成正比+

因為這項技術是非破壞性的，所以．可以在任何時間對試樣進行重

復分析。

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